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        非接觸式表面粗糙度輪廓儀

        簡(jiǎn)要描述:粗糙度輪廓一體式測(cè)量?jī)x,非接觸式表面粗糙度輪廓儀通過(guò)測(cè)量干涉條紋的變化來(lái)測(cè)量表面三維形貌,專用于精密零部件之重點(diǎn)部位表面粗糙度、微小形貌輪廓及尺寸的非接觸式快速測(cè)量。在材料科學(xué)研究,新型材料制備等方面有著廣泛應(yīng)用,比如測(cè)量材料基體和鍍膜后表面形貌和粗糙度,測(cè)量材料的磨損性能(通過(guò)白光干涉儀測(cè)量磨損輪廓和粗糙度)。

        • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
        • 更新時(shí)間:2024-08-11
        • 訪  問  量:1927

        詳細(xì)介紹

        品牌中圖儀器產(chǎn)地國(guó)產(chǎn)
        加工定制

        SuperViewW1非接觸式表面粗糙度輪廓儀以白光干涉技術(shù)為原理、結(jié)合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等對(duì)器件表面進(jìn)行非接觸式掃描并建立表面3D圖像,可測(cè)各類從超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物體表面,從納米到微米級(jí)別工件的粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等。

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        技術(shù)指標(biāo)

         

        型號(hào)

        W1

        光源 白光LED
        影像系統(tǒng) 1024×1024
        干涉物鏡

        標(biāo)配:10×

        選配:2.5×、5×、20×、50×、100×

        光學(xué)ZOOM

        標(biāo)配:0.5×

        選配:0.375×、0.75×、1×

        標(biāo)準(zhǔn)視場(chǎng) 0.98×0.98㎜(10×物鏡,光學(xué)ZOOM 0.5×)

         

        XY位移平臺(tái)

        尺寸 320×200㎜
        移動(dòng)范圍 140×100㎜
        負(fù)載 10kg
        控制方式 電動(dòng)
        Z軸聚焦 行程 100㎜
        控制方式 電動(dòng)
        臺(tái)階測(cè)量

        準(zhǔn)確度:0.3%;重復(fù)性:0.08%(1σ)

        可測(cè)樣品反射率 0.05%~100%
        主機(jī)尺寸 700×606×920㎜

         

        產(chǎn)品功能

        1)設(shè)備提供表征微觀形貌的粗糙度和臺(tái)階高、角度等輪廓尺寸測(cè)量功能;

        2)測(cè)量中提供自動(dòng)對(duì)焦、自動(dòng)找條紋、自動(dòng)調(diào)亮度等自動(dòng)化輔助功能;

        3)測(cè)量中提供自動(dòng)拼接測(cè)量、定位自動(dòng)多區(qū)域測(cè)量功能;

        4)分析中提供校平、圖像修描、去噪和濾波、區(qū)域提取等四大模塊的數(shù)據(jù)處理功能;

        5)分析中提供粗糙度分析、幾何輪廓分析、結(jié)構(gòu)分析、頻率分析、功能分析等五大分析功能;

        6)分析中同時(shí)提供一鍵分析和多文件分析等輔助分析功能。

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        應(yīng)用領(lǐng)域

        對(duì)各種產(chǎn)品、部件和材料表面的平面度、粗糙度、波紋度、面形輪廓、表面缺陷、磨損情況、腐蝕情況、孔隙間隙、臺(tái)階高度、彎曲變形情況、加工情況等表面形貌特征進(jìn)行測(cè)量和分析。

        應(yīng)用范例:

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        SuperViewW1非接觸式表面粗糙度輪廓儀通過(guò)測(cè)量干涉條紋的變化來(lái)測(cè)量表面三維形貌,專用于精密零部件之重點(diǎn)部位表面粗糙度、微小形貌輪廓及尺寸的非接觸式快速測(cè)量。在材料科學(xué)研究,新型材料制備等方面有著廣泛應(yīng)用,比如測(cè)量材料基體和鍍膜后表面形貌和粗糙度,測(cè)量材料的磨損性能(通過(guò)白光干涉儀測(cè)量磨損輪廓和粗糙度)。

        結(jié)果組成:

        1、三維表面結(jié)構(gòu):粗糙度,波紋度,表面結(jié)構(gòu),缺陷分析,晶粒分析等;

        2、二維圖像分析:距離,半徑,斜坡,格子圖,輪廓線等;

        3、表界面測(cè)量:透明表面形貌,薄膜厚度,透明薄膜下的表面;

        4、薄膜和厚膜的臺(tái)階高度測(cè)量;

        5、劃痕形貌,摩擦磨損深度、寬度和體積定量測(cè)量;

        6、微電子表面分析和MEMS表征。

         

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